C&C 사업부는 고객 중심의 품질경영으로 반도체 정밀부품 세정 및 코팅분야를 선도하고 있습니다. 고객사 제품에 대한 높은 신뢰와 안정적 시스템을 바탕으로 최첨단 초정밀 세정 및 코팅 기술이 적용된 반도체 장비 부품을 제공하고 있습니다. 공정 반응 생성물의 종류, 형상 수준에 따라 다양한 방법을 적용한 초정밀 세정과 희토류 산화물 소재의 고기능성 막질을 형성시키는 코팅을 통하여 제품의 수명을 연장시키고 반도체 생산공정의 조건을 실현하고 있습니다.
구미 사업장
안성 사업장
시안 사업장
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| 구분 | APS | |||
|---|---|---|---|---|
| Y2O3 | Nano | SB | E-APS | |
| 특징 | 내플라즈마 저항성 우수 | 반응생성물 포집력↑ 내화학성 우수 |
Back-up Time 안정화 | 화학적/물리적 저항성 우수 |
| 가공도 | 3%↓ | 3%↓ | 2%↓ | 1%↓ |
| 경도 (Ratio) | 1 (B.M) | 2.2 | 0.8 | 1.9 |
| 미세조직 |
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| 구분 | SPS | PVD | |
|---|---|---|---|
| Y₂O₃ | I-SD | I-SD H | |
| 특징 | 고출력 플라즈마 내구성 우수 |
챔버 상부 부품 화학적/물리적 저항성 우수 |
高집적 식각 공정 상부 부품 화학적/물리적 저항성 우수 |
| 가공도 | 0.5%↓ | Near Zero | |
| 경도 (Ratio) | 2.0 | 2.7 | 3.6 |
| 미세조직 |
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