C&C 事業部は顧客中心の品質経営で半導体精密部品洗浄およびコーティング分野をリードしています。 顧客企業の製品に対する高い信頼と安定したシステムを基に、 最先端の超精密洗浄およびコーティング技術が適用された半導体装備部品を提供しています。 工程反応生成物の種類、形状の水準に応じて様々な方法を適用した超精密洗浄と希土類酸化物素材の高機能性膜質を形成するコーティングを通じて製品の寿命を延ばし、 半導体生産工程の条件を実現しています。
亀尾事業所
安城事業所
西安事業所
左右に動かして確認してください。
| 区分 | APS | |||
|---|---|---|---|---|
| Y2O3 | Nano | SB | E-APS | |
| 特徴 | 耐プラズマ抵抗性が優秀 | 反応生成物捕集力↑ 耐化学性が優秀 |
Back-up Time 安定化 | 化学的 / 物理的 抵抗性が優秀 |
| 加工度 | 3%↓ | 3%↓ | 2%↓ | 1%↓ |
| 硬度 (Ratio) | 1 (B.M) | 2.2 | 0.8 | 1.9 |
| 微細組織 |
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左右に動かして確認してください。
| 区分 | SPS | PVD | |
|---|---|---|---|
| Y₂O₃ | I-SD | I-SD H | |
| 特徴 | 高出力プラズマ耐久性が優秀 |
チャンバー上部部品 化学的 / 物理的抵抗性が優秀 |
高集積エッチング工程の上部部品 化学的 / 物理的抵抗性が優秀 |
| 加工度 | 0.5%↓ | Near Zero | |
| 硬度 (Ratio) | 2.0 | 2.7 | 3.6 |
| 微細組織 |
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